铜靶材 铜镍合金靶材 铜钨合金靶材 UVTM靶材定制

真空镀膜机在镀膜的时候，需要镀层表面的化学成分保持均匀性，厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看也就是1/10波长作为单位，约为100A，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。化学组分上的均匀性：就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例。镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。晶格有序度的均匀性：这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。

化学式: Cu

成型工艺: 喷涂

密度:  ≥ 8.57g/cm³(≥96%) 

纯度:  ≥ 99.9%-99.99%(根据客户需求)

应用:  制作纯铜膜，用于装饰玻璃镜膜，PCB板镀膜，TFT-LCD, Low-E玻璃镀膜，半导体电子

加工尺寸： 长度：4000MM ，厚度: 6-13MM，直型、狗骨型，按客户要求定做